中新网上海新闻3月12日电(记者 康玉湛) 日前，中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)宣布其等离子体刻蚀设备反应总台数全球累计出货超过5000台。这包括CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机、单反应台反应器和双反应台反应器共四种构型的设备。

　　据介绍，中微公司不断拓展等离子体刻蚀设备产品线，以满足先进的芯片器件制造日益严苛的技术需求，特别是CCP和ICP的双台机，反复论证了双反应台之间刻蚀的线宽差别，1Sigma已达到0.5纳米以下，刻蚀速度已可以精准到0.1到0.2纳米水平，相当于头发丝直径约三十万分之一。中微公司的刻蚀机已在5纳米及更先进的微观器件生产线上大量应用。

　　中微公司的CCP高能等离子刻蚀设备和ICP低能等离子体刻蚀设备的出货量近年来都保持高速增长。CCP设备在线累计装机量近四年年均增长大于37%，已突破4000个反应台；ICP设备在线累计装机量近四年年均增长大于100%，已突破1000个反应台。截至2025年2月底，公司累计已有超过5400个反应台在国内外130多条生产线，全面实现了量产和大规模重复性销售，赢得了众多客户和供应厂商的信任和支持。

　　据业绩快报显示，中微公司2024年营业收入约90.65亿元，较2023年增加约28.02亿元。公司在过去13年保持营业收入年均增长大于35%，近四年营业收入年均增长大于40%的基础上，2024年营业收入又同比增长约44.73%。其中，刻蚀设备收入约72.77亿元，在最近四年收入年均增长超过50%的基础上，2024年又同比增长约54.73%。

　　未来，中微公司将紧跟先进制程工艺发展的最前沿，继续加大研发投入，在产品设计、开发和制造过程中，始终强调技术的创新、产品的差异化和知识产权的保护，不断开发更多的高端设备产品。

注：请在转载文章内容时务必注明出处!   

编辑：康玉湛